一、lcd生产工程品质分析流程？

一、TFT-LCD的制造工艺流程有以下几部分

①、在TFT基板上形成 TFT 阵列；

②、在彩色滤光片基板上形成彩色滤光图案及 ITO 导电层；

③、用两块基板形成液晶盒；

④、安装外围电路、组装背光源等的模块组装。

二、在 TFT基板上形成TFT阵列的工艺

现已实现产业化的 TFT 类型包括：非晶硅 TFT （ a-Si TFT ）、多晶硅 TFT （ p-Si TFT ）、单晶硅 TFT(c-Si TFT) 几种。目前使用的仍是 a-Si TFT 。

a-Si TFT的制造工艺如下：

①、先在硼硅玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案。一般掩膜曝光用步进曝光机。

②、用 PECVD 法进行连续成膜，形成 SiNx 膜、非掺杂 a-Si 膜，掺磷 n+a-Si 膜。然后再进行掩膜曝光及干法蚀刻形成 TFT 部分的 a-Si 图案。

③、用溅射成膜法形成透明电极（ ITO 膜），再经掩膜曝光及湿法蚀刻形成显示电极图案。

④、栅极端部绝缘膜的接触孔图案形成则是使用掩膜曝光及干法蚀刻法。

⑤、将 AL 等进行溅射成膜，用掩膜曝光、蚀刻形成 TFT 的源极、漏极以及信号线图案。用 PECVD 法形成保护绝缘膜，再用掩膜曝光及干法蚀刻进行绝缘膜的蚀刻成形， ( 该保护膜用于对栅极以及信号线电极端部和显示电极的保护 ) 。

TFT阵列工艺是 TFT-LCD制造工艺的关键 , 也是设备投资很多的部分，整个工艺要求在很高的净化条件（例如 10 级）下进行。

三、 在彩色滤光片（ CF ）基板上形成彩色滤光图案的工艺

彩色滤光片着色部分的形成方法有染料法、颜料分散法、印刷法、电解沉积法、喷墨法。目前以颜料分散法为主。

颜料分散法的是将颗粒均匀的微细颜料（平均粒径小于 0.1 μ m ） (R 、 G 、 B 三色 ) 分散在透明感光树脂中。然后将它们依次用涂敷、曝光、显影工艺方法，依次形成 R. G. B 三色图案。在制造中使用光蚀刻技术，所用装置主要是涂敷、曝光、显影装置。

为了防止漏光，在 RGB 三色交界处一般都要加黑矩阵（ BM ）。以往多用溅射法形成单层金属铬膜，现在也有改用金属铬和氧化铬复合型的 BM 膜或树脂混合碳的树脂型 BM 。

此外，还需要在 BM 上制作一层保护膜及形成 IT0 电极 , 由于带有彩色滤光片的基板是作为液晶屏的前基板与带有 TFT 的后基板一起构成液晶盒。所以必须关注好定位问题，使彩色滤光片的各单元与 TFT 基板各像素相对应。

二、lcd切割工艺？

Icd比较常见的切割工艺有刀轮切割、激光切割及水射流切割几种工艺技术。

现有的lcd屏切割装置在切割过程中，通常采用在显示屏上施加局部外力的方式，直接压紧固定显示屏，然后开始切割操作，但此种压紧固定方式下液晶屏受力不均匀，容易使液晶屏变形，对液晶屏的压紧力也不容易控制，过大的压紧力也会使液晶屏变形甚至破裂，况且在切割液晶屏时液晶屏上割缝处会受到热和力的影响发生翘曲等变形，使液晶屏平面弯曲变形，平面度无法达到产品要求，同时现有的切割装置也不便于放取料。

三、cog工艺流程详解？

COG 制造工艺至今已有近十年的发展历史，它的发展与IC 的小型化、超薄化以及LCD 显示屏光

刻精度的精细化是密不可分的。

COG 工艺流程如下所示。

LCD 显示屏->将ACF 邦贴到屏上->将裸芯片从芯片拖盘中取出->检查裸芯片的对位标记->检查LCD 屏上对位标记->芯片与LCD 屏对位->热压头将芯片与LCD 屏邦贴到一起->整个邦贴过程完成

四、液晶屏是怎样在玻璃上刻的？

液晶屏是通过一系列的工艺步骤在玻璃上刻制而成的。首先，玻璃表面经过清洁和抛光处理，以确保表面平整和无杂质。

然后，在玻璃上涂覆一层透明导电膜，通常使用氧化铟锡（ITO）材料。

接下来，在导电膜上涂覆一层对光有选择性的有机物，形成液晶层。

然后，涂覆一层对光有选择性的聚合物薄膜，作为对比度增强层。

最后，通过光刻技术，使用紫外线照射和化学腐蚀等步骤，将液晶层和对比度增强层刻制成所需的图案和结构。整个过程需要精密的设备和工艺控制，以确保液晶屏的质量和性能。

五、液晶显示器制造工艺流程是什么？

答：LCD液晶屏生产工艺流程：点碳→裁PIN→ 装PIN →点胶 →过UV机→切脚→测试→检外观（点UV胶的LCD才需要过UV机，点AB胶的LCD不用过UV机，要自然晾干，自然晾干一般要8小时） 这里的工艺比较简单，不必一一进行讲解。

六、液晶屏除泡原理？

是靠液晶屏中的气泡被排除来实现的。因为液晶屏中，如果没有气泡，它们在液晶屏内会形成一个透明薄膜，从而才能显示图像。可如果有气泡存在，那么透明薄膜的形成就会受到影响，会导致在显示图像时有黑点或者雾点等问题，影响显示效果。所以液晶屏在制造过程中，会使用真空和高温等方法排除气泡，以保证透明薄膜能够正常形成，从而达到最佳的显示效果。另外，液晶屏在生产过程中，还需要经过多次的印刷和制作工序，如喷洒、烘烤、切割等等，不同的原料和工序也会影响气泡的产生和排除。因此，生产厂家需要在生产工艺上加以控制，以确保液晶屏的质量和稳定性。

七、incell工艺讲解？

Incell工艺是一种液晶屏幕处理技术，用于提高手机屏幕的触控性能和显示质量。该工艺将液晶屏的触控层和显示层合二为一，减少了屏幕厚度和显示层与触控层之间的光传输阻碍，从而使画面更加清晰和明亮。与传统的GFF（Glass Film Film）触控技术相比，Incell工艺中的触控层直接被屏幕的显示层覆盖，而不是分层放置在显示层之上。这种直接结合的设计使得屏幕的操作更加直观，更接近用户的手指，大大提高了触控的精准度和反应速度。同时，Incell工艺还可以减少反射和折射，提高屏幕的亮度和对比度，呈现更加鲜艳和细腻的色彩。由于Incell工艺不再需要独立的触控层，这意味着生产过程更加简化，可以降低成本、提高生产效率和屏幕质量的稳定性。此外，Incell工艺还能节省空间，使得手机可以更薄更轻。总的来说，Incell工艺是一种结合了显示层和触控层的先进液晶屏处理技术，可以提高手机屏幕的触控性能、显示质量和用户体验。

八、液晶屏制造原理？

回答如下：液晶屏制造原理是基于液晶物质的光学特性来实现的。液晶是一种介于固体与液体之间的物质，具有双折射和极性等特性。液晶屏是由液晶分子、玻璃基板、导电层、背光源等组成的。

制造液晶屏的过程大致如下：

1. 制备液晶分子：通过化学合成或提取天然物质等方式获取液晶分子。

2. 制备基板：将高纯度玻璃材料切割成所需尺寸和形状的基板。

3. 涂布导电层：在基板上涂布一层导电材料，如ITO（铟锡氧化物）。

4. 制备液晶层：在导电层上涂布液晶分子，并在两侧加上对齐层，通过加热或冷却来使液晶分子排列有序。

5. 封装：将两片涂有液晶层的基板倒置垂直对接，中间加入适量的液晶，同时封口，形成液晶屏。

6. 加工：对液晶屏进行切割、钻孔、钳边等加工处理，以便后续安装使用。

7. 背光源：液晶屏背部加入背光源，如LED等，以提供光源，使液晶屏显示画面。

在使用过程中，液晶屏的液晶分子受到电场作用，改变分子排列方式，从而改变光的传播方向和强度，实现显示功能。